Сложнейшая задача фотолитографии в глубоком ультрафиолете — генерация излучения с оптимальной длиной волны — 13,5 нанометра. Решение: возникающее под воздействием лазера свечение плазмы, которое испускает излучение с такими экстремально короткими волнами. Генератор спускает в вакуумную камеру капли олова, мощный импульсный лазер 50 000 раз в секунду облучает проносящиеся мимо капли олова. Атомы олова ионизируются, образуется плотная плазма. Собирающее зеркало улавливает EUV-излучение, исходящее от плазмы во всех направлениях, фокусирует его и передает в систему литографии для экспонирования подложки.
Более того, лазер должен наводиться на падающую каплю дважды - первый импульс расплющивает каплю, а второй превращает в плазму. И все это в реальном времени.
в глубоком ультрафиолетеклассно звучит
EUV это вообще магия:
Сложнейшая задача фотолитографии в глубоком ультрафиолете — генерация излучения с оптимальной длиной волны — 13,5 нанометра. Решение: возникающее под воздействием лазера свечение плазмы, которое испускает излучение с такими экстремально короткими волнами. Генератор спускает в вакуумную камеру капли олова, мощный импульсный лазер 50 000 раз в секунду облучает проносящиеся мимо капли олова. Атомы олова ионизируются, образуется плотная плазма. Собирающее зеркало улавливает EUV-излучение, исходящее от плазмы во всех направлениях, фокусирует его и передает в систему литографии для экспонирования подложки.
Более того, лазер должен наводиться на падающую каплю дважды - первый импульс расплющивает каплю, а второй превращает в плазму. И все это в реальном времени.
Комментарий недоступен