Micron приступила к массовому производству DRAM микросхем построенных на новейшем техпроцессе 1α (1-alpha)

Micron приступила к массовому производству DRAM микросхем построенных на новейшем техпроцессе 1α (1-alpha)

Изначально компания будет использовать новый узел для производства LPDDR4X памяти и 8 ГБ DDR4 чипов, а позднее и вовсе переведёт всё DRAM производство на новый стандарт, включая DDR5, HBM2E и GDDR6/GDDR6X решения.

В отличие от своих конкурентов Micron не планирует использовать литографию в крайнем ультрафиолете (EUV) как минимум несколько лет. Применение ультрафиолетовых сканеров запланировано с приближением к поколению 1δ (дельта) — это случится не раньше 2024 года.

Micron приступила к массовому производству DRAM микросхем построенных на новейшем техпроцессе 1α (1-alpha)

Узел 1α (1-альфа) предлагает значительные улучшения в плотности, мощности и производительности по сравнению с узлом 1Z: увеличение плотности битов выросло аж на 40%, а энергопотребление снизилось на 15%.

Первые 8 ГБ DDR4 чипы изготовленные на новом техпроцессе уже поступили в продажу, а поставки LPDDR4X микросхем начнутся в конце этого месяца.

На данный момент только один тайваньский завод Micron использует технологию 1α — A3. В ближайшем будущем компания будет постепенно внедрять новую производственную технологию на другие фабрики.

Micron приступила к массовому производству DRAM микросхем построенных на новейшем техпроцессе 1α (1-alpha)

Под конец стоит упомянуть, что Micron успешно прошла валидацию со своей «новой» DDR4 1α памятью на новейших серверных платформах Intel и AMD, включая процессор AMD EPYC «Milan» третьего поколения. Эти же чипы можно использовать и для ноутбуков.

Источник: Tom’s Hardware

2424
14 комментариев
7
Ответить
17
Ответить

не планирует использовать литографию в крайнем ультрафиолете (EUV)

Терминология на русском языке еще не сложилась окончательно, но "крайний" в отношении ультрафиолета в фотолитографии почти не употребляют.

Были ртутные лампы и это называлось UV в англоязычной литературе и УФ у нас. С появлением KrF и ArF-лазеров появился термин DUV - deep ultraviolet (248 нм и 193 нм) - дальний ультрафиолет, как его называли у нас. Развитие и внедрение источников излучения с длиной волны 13,5 нм привело к появлению термина EUV - extreme ultraviolet, который в русскоязычной литературе "обзывался" глубоким/экстремальным, но не крайним. Все-таки фотолитография далека от летных дел и суеверий, с ним связанных.

2
Ответить

Я лично услышал про ультрафиолет только с разговоров а железе ps5, которая смогла взять 2.2Ггц. До этого я слышал про ультрафиолет в истории одного кадровика, который перепутал жидкость для пленок с чаем и отравился.

Ответить

А есть таблица с переводом всего этого зоопарка хотя бы в маркетинговые нанометры?

1
Ответить

Сейчас все DRAM лидеры используют 3 поколение чипов 1z изготовленных по 10 нм техпроцессу. Будущие решения альфа, бета и дельта будут также изготовлены по 10 нм техпроцессу, если я не ошибаюсь. (=

1
Ответить

там же ещё 3d структура, я думаю проще использовать 2 параметра, объем вычислительных единиц и размер всего кристалла.

Ответить