не планирует использовать литографию в крайнем ультрафиолете (EUV)
Терминология на русском языке еще не сложилась окончательно, но "крайний" в отношении ультрафиолета в фотолитографии почти не употребляют.
Были ртутные лампы и это называлось UV в англоязычной литературе и УФ у нас. С появлением KrF и ArF-лазеров появился термин DUV - deep ultraviolet (248 нм и 193 нм) - дальний ультрафиолет, как его называли у нас. Развитие и внедрение источников излучения с длиной волны 13,5 нм привело к появлению термина EUV - extreme ultraviolet, который в русскоязычной литературе "обзывался" глубоким/экстремальным, но не крайним. Все-таки фотолитография далека от летных дел и суеверий, с ним связанных.
Я лично услышал про ультрафиолет только с разговоров а железе ps5, которая смогла взять 2.2Ггц. До этого я слышал про ультрафиолет в истории одного кадровика, который перепутал жидкость для пленок с чаем и отравился.
Сейчас все DRAM лидеры используют 3 поколение чипов 1z изготовленных по 10 нм техпроцессу. Будущие решения альфа, бета и дельта будут также изготовлены по 10 нм техпроцессу, если я не ошибаюсь. (=
не планирует использовать литографию в крайнем ультрафиолете (EUV)
Терминология на русском языке еще не сложилась окончательно, но "крайний" в отношении ультрафиолета в фотолитографии почти не употребляют.
Были ртутные лампы и это называлось UV в англоязычной литературе и УФ у нас. С появлением KrF и ArF-лазеров появился термин DUV - deep ultraviolet (248 нм и 193 нм) - дальний ультрафиолет, как его называли у нас. Развитие и внедрение источников излучения с длиной волны 13,5 нм привело к появлению термина EUV - extreme ultraviolet, который в русскоязычной литературе "обзывался" глубоким/экстремальным, но не крайним. Все-таки фотолитография далека от летных дел и суеверий, с ним связанных.
Я лично услышал про ультрафиолет только с разговоров а железе ps5, которая смогла взять 2.2Ггц. До этого я слышал про ультрафиолет в истории одного кадровика, который перепутал жидкость для пленок с чаем и отравился.
А есть таблица с переводом всего этого зоопарка хотя бы в маркетинговые нанометры?
Сейчас все DRAM лидеры используют 3 поколение чипов 1z изготовленных по 10 нм техпроцессу. Будущие решения альфа, бета и дельта будут также изготовлены по 10 нм техпроцессу, если я не ошибаюсь. (=
там же ещё 3d структура, я думаю проще использовать 2 параметра, объем вычислительных единиц и размер всего кристалла.